型 号：UP-206
制 造 商：优普莱/Uniplasma
存 放 地 点：550栋202
主要功能及特色
微波等离子体化学气相沉积系统（MPCVD）是用于合成高质量金刚石薄膜与单晶的先进设备。其主要特色包括：
精密沉积控制：通过微波激发高密度等离子体，可精确调控温度、压力及气体流量等关键参数，确保金刚石优异的结构与性能。
高效低损伤生长：具备高等离子体密度与较低基底温度，有助于实现高质量金刚石的高速率、低应力沉积。
多结构多应用支持：支持多晶、单晶及纳米金刚石等多种生长模式，适用于工具涂层、热管理及电子器件等多样化需求。
主要技术指标
1.微波系统（法国Sairem微波源）
a)微波频率：2450±25MHz
b)输出功率：0.6kw~6kw连续可调
c)微波调谐：三销钉调配器，模式转换天线；
d)微波反射保护：环形器，水负载；
e)微波工作模式：TM013
f)微波泄漏：≤ 2 mw/cm2
2.真空系统
a)工作气压范围：10~250Torr
b)自动稳压范围：40~250Torr
c)真空泵：4.4L/s双级旋片式真空泵
d)系统漏率：<1.0x10-9 Pa・m3 /s(通过氦质谱检漏仪检测)
e)腔体保压能力：每12小时压升小于0.2 Torr
f)本底极限真空：＜1Pa（7.5 x10-3 Torr)
g)真空测量：配备两个真空薄膜规，量程分别为：1~1000Torr,1~1000mTorr
3.真空反应腔
a)反应腔材料及结构：双层水冷不锈钢反应腔
b)真空密封：CF刀口法兰金属密封+氟胶圈密封(取样门)
c)样品台窗口：110x63mm长方形端口，带O形氟橡胶圈密封的前门
d)观察窗口： 两个端口，CF35大口径，180°分布
e)测温窗口： 两个窗口水平角度25~30°，180°分布；窗口方便从反应腔上部的斜角向下检测样品台的温度
4.样品台
a)电动升降式水冷基片台，直径120mm，高度可调范围0～110mm
b)标配钼基片台直径≥50mm，在5000w, 180Torr工作状态，等离子体火球可覆盖整个基片台
c)基片台温度 250～1400℃（取决于工艺参数）
5.气路
a)选用高精度流量计及流量控制阀
b)系统标配四路MFC，最多支持六路MFC.
c)标配四路MFC最大流量：H2: 1000sccm，CH4：100sccm，O2：10sccm，N2：10sccm
6.测温系统
a)采用红外测温系统，测温范围：250~1400℃
7.系统软件
a)配置PLC控制的15“触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成
b)系统支持工程师和操作员两个用户级别，提供用户权限管理功能
c)系统自带缺水，缺气，电源缺相，火球跳变，过温过载，打火等自动保护
d)可设置多达100套工艺配方，每套配方有40行数据，生产流程通过工艺配方自动控制，工艺数据可通过U盘备份导出
e)系统自带全自动抽气，点火，升温，降温等预设流程，用户操作简便
f)全自动温度控制，气压控制，极大减轻系统操作员的工作量
主要附件及配置
石英窗-φ142
C型圈
- 氟胶圈
用户须知
需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为测试。
