激光分子束外延系统

Laser-MBE 1#

稿件来源：js65金沙线路总站 编辑：办公室 发布日期：2026-02-06
 
 

 

 

 

 

 

 

 

型          号：TSST 定制

制   造   商：Laser Molecular Beam Epitaxy

存 放 地 点：571栋哲生堂109

 

主要功能及特色

激光分子束外延系统是一种能够实现原子级精确控制的先进薄膜制备技术。其主要特色包括：

  1. 高精度薄膜生长：通过激光脉冲轰击靶材，可在基底上逐层沉积，实现原子级平整的薄膜生长，精确控制厚度、组分与晶体结构。

  2. 低温工艺与多元素兼容：激光脉冲能量高、时间短，支持较低温度下的高质量生长，减少热损伤；可灵活切换多种靶材，实现复杂组分的原子级共沉积。

  3. 原位实时监测：集成反射高能电子衍射（RHEED）系统，可实时监控生长过程中的表面形貌与晶体质量，确保薄膜的高纯度与结构完整性。

 

主要技术指标

  1. 电阻加热最高加热温度：900℃；激光加热最高加热温度：1100℃。

  2. 可同时安装5个1英寸靶材。

  3. 具有高压RHEED，可实现材料实时生长监控。

  4. e-8mbar背底真空

    极限真空度5E-9mbar\5E-5mbar/

    最高温度不低于900度\1000度/

    加热面积不小于5mm*5mm/

    控制范围0-30sccm/

    电子枪能量30KeV/

    离子源能量0.5-5KeV/

    激光频率0.1-10Hz/

    激光束尺寸24*10mm2

 

主要附件及配置

  1. 激光加热台

  2. 电阻加热台

  3. 等离子清洗

  4. Rheed监控

 

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为测试。

设备预约链接：https://sharing.sysu.edu.cn/home/#/orderDetail?id=2473  

设备预约二维码：

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