型 号：Picomaster ATE-100
制 造 商：Raith
存 放 地 点：550栋203
主要功能及特色
PicoMaster ATE-100 是一款高精度无掩膜激光直写系统，专用于微纳结构的快速、灵活图案化制备。其主要特色包括：
无掩膜灰度直写：采用405 nm激光，支持最高4095级灰度曝光与300 nm分辨率，无需掩膜即可实现复杂图形直写，显著缩短制程周期。
高精度套刻与实时监控：具备多层套刻功能，套刻精度优于500 nm，并可借助CCD实时监测曝光过程与质量。
灵活易用的操作系统：内置友好软件界面，支持矢量曝光与参数灵活调整，适用于微电子、光子学及微流控等领域的快速原型开发与小批量生产。
主要技术指标
使用405nm波长激光光源，可实现多种光刻精度（300nm、600nm、900nm），且软件控制自动切换；
光刻最小分辨率300nm，线宽均匀性小于50nm，边缘粗糙度小于60nm；
可扫描基板尺寸最小5×5mm，最大125mm×125mm，最大曝光尺寸110mm×110mm，基板厚度可达11mm；
使用625nm红光进行自动对焦，在光刻时可实时对焦；
支持多层套刻，对准精度不大于500nm；
支持4095阶灰度曝光；
可利用对位系统相机实现指定区域扫描，通过扫描结果观察样品表面，在扫描区域内可实现精准特定图形曝光；
8.可进行矢量曝光。
用户须知
需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为测试。
