电子束直写系统(SEM+EBL+EDS)

E-Beam Lithography

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型          号:Raith PIONEER Two

制   造   商:Raith GmbH

存 放 地 点:571栋哲生堂103

 

主要功能及特色

Raith Poineer Two是一款高精度电子束直写系统,专用于微纳结构与器件的制备和加工。其主要特色包括:

  1. 超高加工精度:采用高分辨热场发射电子枪,可实现8 nm的制备精度,以及小于50 nm的套刻与拼接精度。

  2. 直写与检测一体化:集成高精度扫描电镜,可在加工过程中同步进行形貌观测与位置校准。

  3. 完整的工艺链条:通过电子束曝光、等离子刻蚀及金属蒸镀与剥离等工艺,支持硅基、砷化镓、磷化铟等多种材料的微纳器件制备。

 

主要技术指标

  1. 该设备具有热场电子发射枪,可调节电压的范围为20 eV-30 keV,电子束流范围是5 pA- 20 nA,电子束束斑小于等于1.6 nm。

  2. 图形发生器频率为6 MHz。

  3. 最小直写线宽小于等于8 nm。

  4. 写场面积:100 μm ×100 μm,写场拼接误差小于等于50 nm。

  5. 套刻精度小于等于50 nm。

  6. 放置样品最大尺寸为25 mm×25 mmV。

 

主要附件及配置

  1. 采用场效应晶体管一体化集成设计;

  2. 硅漂移电制冷探测器有效面积30 mm2,直径不大于16 mm;

  3. 能量分辨率在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV;

  4. 轻元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV;

  5. 元素分析范围: Be 4~Cf 98;

  6. 探测器处理单元与计算机采用分立式设计,单探测器输出最大计数率优于600,000CPS,可处理最大计数率优于1,500,000CPS

  7. 可将电镜图像传输到能谱仪的显示器上:

  • 戴尔(DELL)Vostro成就3710:i7-12700 16G内存1T固态硬盘 24寸高清显示器,windows 11系统;

  • 分析工作站:CPU, Intel Core i7 ;内存,16GB;硬盘,1TB;显示器,24"LCD;系统,windows 10。

 

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用,或由已培训的人员代为测试。

设备预约链接:https://sharing.sysu.edu.cn/home/#/orderDetail?id=2436 

设备预约二维码:

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